В Китае выпустят оборудование на основе собственных разработок

По данным Tomshardware, в Китае выпустят оборудование для производства чипов на базе собственных разработок без технологий США.

Китай становится на шаг ближе к тому, чтобы самостоятельно обеспечить себя полупроводниками.

Согласно сообщениям СМИ, Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE) планирует поставить свой литографический сканер второго поколения для глубокого ультрафиолета (DUV) к четвертому кварталу 2021 года. 

Инструмент может производить чипы по 28 нм техпроцессу, используя компоненты, произведенные в Китае и Японии — это имеет большое значение в условиях продолжающейся торговой войны между Китаем и США, в результате которой США запрещают китайским компаниям покупать некоторые типы оборудования для изготовления микросхем. 

В Китае есть ряд довольно конкурентоспособных производителей полупроводников, которые производят микросхемы. Все эти компании используют производственное оборудование, разработанное и произведенное в других странах, таких как Япония, Нидерланды и США.

Сейчас Китай не только поощряет разработку микросхем и местное производство, но также поддерживает изготовление оборудования для производства полупроводников. 

Сегодня самые передовые устройства SMEE — это сканеры серии 600, которые можно использовать для изготовления чипов с использованием техпроцесса 0,28 микрон (280 нм), 0,11 микрон (110 нм) и 0,09 микрон (90 нм). 

Новейшая машина SMEE SSA600/20 представляет собой инструмент для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой литографии, оснащенный фторидным аргонофторидным (ArF) лазером с длиной волны 193 нм. Такие компании, как Intel и TSMC, начали использовать иммерсионную литографию DUV еще в 2004 году, поэтому SSA600/200 вряд ли можно назвать передовым оборудованием.

Преемник машины SSA600/20 продолжит использовать источник света ArF, но для значительно более тонких технологических процессов. Согласно Verdict, будущий сканер обещает быть достаточно продвинутым, чтобы производить чипы с использованием 28-нм техпроцесса. Очевидно, что эти сканеры могут использоваться как для 40-нанометровых, так и для 55- и 65-нанометровых производственных процессов, которые довольно популярны для множества приложений. 

SMEE практически не зависит от США, что делает ее более стойкой перед санкциями.