В Университете Нархоз разработали технологию фитозахватных барьеров

В Университете Нархоз разработали технологию фитозахватных барьеров

С помощью передового компьютерного моделирования смоделирована система «растение-поверхность-атмосфера».

Ученые Университета Нархоз из Института устойчивого развития Казахстана разработали технологию фитозахватных барьеров, способную улавливать до 40% мелкодисперсных частиц.

Фитозахватный барьер — это точно рассчитанная по высоте и ширине цепь зеленых насаждений вокруг предприятия или шахты для захвата пыли и органических соединений от производства, которые в противном случае оседают в легких людей, вызывая легочные и сердечно-сосудистые заболевания. Технология уже была апробирована на горнодобывающей шахте Аксу в окрестностях Астаны и при разбивке ботанического сада вокруг реконструированного кампуса Университета Нархоз по улице Жандосова.

"По официальным оценкам, ежегодно 8,9 млн человек умирают по всему миру в результате накопления мелкодисперсных твердых частиц, поступающих в легкие из атмосферы. Чтобы уменьшить вредное влияние, команда наших ученых с помощью передового компьютерного моделирования смоделировали систему "растение-поверхность-атмосфера". Такая модель позволяет, например, существенно оградить сотрудников и студентов Университета Нархоз от пыли и вредных выбросов от автодороги и снизить концентрацию вредных веществ в пределах кампуса", — рассказал директор Института устойчивого развития Казахстана Брендан Дюпрей.

Институт устойчивого развития Казахстана (SKRI) — один из первых научных институтов в Центральной Азии в сфере устойчивого развития. Его задача — поддерживать полевые и академические исследования, направленные на реализацию в Казахстане Целей в области устойчивого развития (ЦУР). Сегодня институт реализует ряд крупных проектов в области экологии и образования вместе с международными организациями, среди которых ООН, Tauw Foundation, Friedrich Ebert Foundation и т.д.

SKRI открыт для получения запросов от горнодобывающих компаний и других заинтересованных сторон на коммерческую и научную работу по внедрению данной технологии. Для получения более подробной информации: [email protected]